TESCAN Large Volume Workflow

Kombination von FIB-Fräsen und Laserablation für die Tiefenanalyse

Effiziente Untersuchung von Proben im Millimeterbereich durch die Synergie von Plasma FIB-REM und Laserablation

Die wichtigsten Vorteile des TESCAN Large Volume Workflow

Unerreichte analytische Fähigkeiten

06

Nutzen Sie die Leistungsfähigkeit des industrieerprobten Plasma-FIB-SEM und des vielseitigen Lasersystems von TESCAN für ein breites Spektrum an mikrostrukturellen Diagnoseverfahren.

Probenpräparation im Kubikmillimeter-Maßstab

10

Effiziente Präparation großvolumiger Proben oder tiefer Querschnitte, schnell und ohne Ga Implantation.

Tiefe Einblicke in anspruchsvolle Proben

21d

Erhalten Sie schnell und mühelos Zugang zu tief liegenden Probenregionen (ROIs-Regions of Interest), selbst in nichtleitenden, harten Materialien, mit den beschleunigten Materialabtragsraten unserer Kombination aus Laser und Plasma FIB.

Artefaktfrei

Ergebnisse

01

Erhalten Sie unverfälschte Querschnitte für die ultrahochauflösende Bildgebung mit a überlegenen Oberflächenpolierens Technik für Zugang auf die feinste Details über die gesamte cross Abschnitt.

Optimiert

Durchsatz

Komponente 12 - 2

Minimieren Sie sowohl die Zeit bis zur Probenahme als auch die Kosten pro Probe mit Technologien, die speziell für die Entfernung großer Mengen an Material entwickelt wurden.

Benutzerfreundliche Oberfläche und Workflows

12

Steigern Sie Ihre Produktivität mit unserer intuitiven Software, die einen nahtlosen Betrieb sowohl von Plasma FIB-SEM- als auch von Laserablationssystemen ermöglicht.

Entdecken Sie den Large Volume Workflow.

Beschleunigen Sie die Halbleiter-Fehleranalyse im Millimeter-Maßstab mit dem TESCAN Large Volume Workflow

4 mm Schnitt durch 7 x Ø500 μm Lotkugeln, in 20 Minuten durch Laserablation erreicht.

Profitieren Sie von der umfassenden Fehleranalyse

Effizienter Querschnitt von Proben im Millimeterbereich auf Package-Ebene (3D-ICs, TSVs, Lötkugeln, Flip-Chips usw.) für eingehende Fehleranalysen.

Mikroprobenausschnitt mit Lötstellen, Lötaugen und einem Teil der Leiterplatte für hochauflösende Mikro-CT-Analysen.

Proben für anspruchsvolle Anwendungen vorbereiten

Bereiten Sie Probenblöcke für hochauflösende Mikro-CT-Analysen, Atomsondentomographie und Zug- oder Druckprüfungen vor.

0,5 mm großer Lamellenbrocken aus einer durch Laserablation hergestellten IC-Probe, gereinigt mit CO2-Schneestrahl.

Anpassung an die Geometrie von Freiform-Proben

Erreichen Sie eine mikrometergenaue Freiform-Probenpräparation für spezifische Geometrien: TEM-Untersuchungen in der Ebene, H-Balken für FIB-Querschnittsanalysen oder komplexe 3D-Proben.

Haben Sie Fragen?
Sind Sie an einer virtuellen Demo interessiert?

Unser weltweites Team beantwortet gerne Fragen zu TESCAN FIB-SEMs und unseren Lösungen für die Fehleranalyse von Halbleitern und IC-Verpackungen.